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首頁-產品系統--納米壓印配套設備-GL Plasma等離子體清洗設備
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簡要描述:? GL Plasma等離子體清洗設備數適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材(軟工作模具基材)。
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納米壓印配套設備
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詳細介紹
GL Plasma等離子體清洗設備主要應用于活化,提升附著力和清洗等工藝。
●適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材(軟工作模具基材)
●適用于清洗納米壓印基底表面
●適用于納米壓印基底表面增粘、激活、改性
●適用于增加工作模具基材與模具復制材料粘附性
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0532-67769322
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